特許
J-GLOBAL ID：200903028328030230

パターン形成基材およびパターン形成方法

発明者：
中林 敬哉

中林 敬哉 について

, 
藤井 暁義

藤井 暁義 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (4件)： 原 謙三 ,  木島 隆一 ,  圓谷 徹 ,  金子 一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-255646
公開番号（公開出願番号）：特開2004-095896
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：
【課題】液滴が付着してはならない領域に該液滴を付着させないようにして、所望する特性のパターンを形成することが可能なパターン形成基材を提供する。【解決手段】液滴8に対する撥液性を示す撥水領域7と、液滴8に対する親液性を示す親水ライン6とが基板11上に形成される。上記親水ライン6は、液滴8が着弾したときに、該液滴8が矢印方向に移動するように表面処理されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
液滴が対象面上に吐出されることで所定のパターンが形成されるパターン形成基材において、 上記液滴が対象面上に接触したときの接触角が第1接触角の第1領域と、この第1領域と隣接し、上記第1接触角よりも小さな第2接触角の第2領域とが上記対象面上に形成され、 上記第2領域は、液滴が着弾したときに、該液滴が所定の方向に移動するように表面処理されていることを特徴とするパターン形成基材。
IPC (6件)：
H05K3/10 ,  B41J2/01 ,  H01L21/288 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786
FI (6件)：
H05K3/10 D ,  H01L21/288 Z ,  H01L29/78 627C ,  H01L21/88 B ,  H01L29/78 612C ,  B41J3/04 101Z
Fターム (33件)：
2C056EA24 ,  2C056FB01 ,  2C056FB05 ,  4M104BB08 ,  4M104CC01 ,  4M104DD22 ,  4M104DD28 ,  4M104DD51 ,  4M104GG09 ,  4M104GG10 ,  4M104GG14 ,  4M104GG20 ,  4M104HH20 ,  5E343AA37 ,  5E343BB72 ,  5E343DD12 ,  5E343FF05 ,  5E343GG08 ,  5E343GG11 ,  5E343GG20 ,  5F033HH14 ,  5F033PP26 ,  5F033VV15 ,  5F033XX34 ,  5F110AA26 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110HK02 ,  5F110HK32 ,  5F110HK42 ,  5F110HM19 ,  5F110QQ01
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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