特許
J-GLOBAL ID：200903028348219160
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-383175
公開番号（公開出願番号）：特開2002-184764
出願日： 2000年12月18日
公開日（公表日）： 2002年06月28日
要約：
【要約】【課題】従来のプラズマ処理装置では、被処理体周辺部からのみ排気を行っているため、プラズマ処理に寄与する活性種や副生成ガスの面内分布が必ずしも均一にはならない。【解決手段】被処理体8に対する対向面に複数のガス噴出口18を備えるガス噴出手段を備え、前記被処理体8に処理を施すプラズマ処理装置において、2種類以上の互いに異なる流量比からなる混合ガスを、互いに異なる前記ガス噴出口から噴出させることで、被処理体に均一なプラズマ処理を施すことが可能となる。また、被処理体対向面にガス吸入口を設けることでも、処理体に均一なプラズマ処理を施すことが可能となる。
請求項（抜粋）：
被処理体に対する対向面に複数のガス噴出口を備えるガス噴出手段を有し、該ガス噴出手段により供給されるガスをプラズマ化して、前記被処理体に処理を施すプラズマ処理装置において、前記ガス噴出手段が、2種類以上の、互いに異なる流量比からなる混合ガスを互いに異なる前記ガス噴出口から噴出するよう構成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05H 1/46 C
, H01L 21/302 B
5F004AA01
, 5F004AA05
, 5F004BA14
, 5F004BB11
, 5F004BB32
, 5F004BC02
, 5F004BC03
, 5F004CA02
, 5F004DA00
, 5F004DA04
, 5F004DA20
, 5F004DA22
, 5F004DA23
, 5F004DA26
, 5F004DB23
, 5F004DB26
