特許
J-GLOBAL ID：200903028354381076
不良検出システム、不良検出方法及びプログラム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 川又 澄雄
, 中村 友之
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-170677
公開番号（公開出願番号）：特開2008-004641
出願日： 2006年06月20日
公開日（公表日）： 2008年01月10日
要約：
【課題】半導体装置の不良原因を高精度に検出可能な不良検出システムを提供する。【解決手段】露光装置を含む複数の製造装置21〜2nの装置パラメータの時系列データ、及び複数の製造装置21〜2nで処理されるウェハ上に配列されるチップサイズよりも細かい単位の不良分布の情報をそれぞれ取得するデータ取得部11と、不良分布の情報を、露光装置のショット領域単位或いはチップ単位にグループ化し不良パターンに分類するパターン分類部12と、時系列データを統計的に処理して特徴量を算出する特徴量算出部13と、ショット領域単位或いはチップ単位で、不良パターンの有無のそれぞれに分けた特徴量の頻度分布を算出し、不良パターンの有無のそれぞれに分けた頻度分布間で有意差の有無を判定する有意差検定部14と、有意差が有ると判定された場合、特徴量に対応する装置パラメータを不良パターンの不良原因として検出する不良検出部15を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光装置を含む複数の製造装置の装置パラメータの時系列データ、及び前記複数の製造装置で処理されるウェハ上に配列されるチップサイズよりも細かい単位の不良分布の情報をそれぞれ取得するデータ取得部と、
前記不良分布の情報を、前記露光装置のショット領域単位或いはチップ単位にグループ化し不良パターンに分類するパターン分類部と、
前記時系列データを統計的に処理して特徴量を算出する特徴量算出部と、
前記ショット領域単位或いはチップ単位で、前記不良パターンの有無のそれぞれに分けた前記特徴量の頻度分布を算出し、前記不良パターンの有無のそれぞれに分けた前記頻度分布間で有意差の有無を判定する有意差検定部と、
前記有意差が有ると判定された場合、前記特徴量に対応する前記装置パラメータを前記不良パターンの不良原因として検出する不良検出部
とを備えることを特徴とする不良検出システム。
IPC (3件)：
H01L 21/66
, H01L 21/02
, G01R 31/26
H01L21/66 Z
, H01L21/02 Z
, G01R31/26 G
2G003AA10
, 2G003AH01
, 2G003AH05
, 2G003AH10
, 4M106AA01
, 4M106BA01
, 4M106DA15
, 4M106DJ19
, 4M106DJ20
