特許
J-GLOBAL ID：200903028362780117
ベンゾフェノン基又はベンゾトリアゾール基を有するポリシロキサン系共重合体
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中本 宏 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-141121
公開番号（公開出願番号）：特開平10-316726
出願日： 1997年05月16日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：
【要約】【課題】 耐汚染性を有する新規な紫外線吸収性樹脂を提供する。【解決手段】 一般式(1)のポリシロキサン含有ビニル系単量体(A)と下記一般式(2)の紫外線吸収基を有するビニル系単量体(B)とを共重合して得られる、数平均分子量が2,000〜2,000,000であるベンゾフェノン基又はベンゾトリアゾール基を有するポリシロキサン系共重合体。【化1】 CH2 =R1 C-X-(Si(R2 )2 O)n -Si(R3 )3 (1)【化2】CH2 =CR1 -Y (2)〔R1 は水素原子又はメチル基、R2 ,R3 は炭素数1〜3のアルキル基又はフェニル基、nは6〜100の整数、Xはフェニレン基又は、カルボニルオキシアルキレン基もしくはカルボニルオキシアルキレンオキシアルキレン基、Yはベンゾフェノン基、ベンゾトリアゾール基のいずれかの特性基を有する置換基。〕
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で示されるポリシロキサン含有ビニル系単量体(A)と下記一般式(2)で示される紫外線吸収基を有するビニル系単量体(B)とを、(A)と(B)の比率が重量比で10対90から90対10の範囲で共重合して得られる、数平均分子量が2,000〜2,000,000であるベンゾフェノン基又はベンゾトリアゾール基を有するポリシロキサン系共重合体。【化1】 CH2 =R1 C-X-(Si(R2 )2 O)n -Si(R3 )3 (1)〔式中、R1 は水素原子又はメチル基を示す。R2 とR3 は炭素数1〜3のアルキル基又はフェニル基で、同じ基でも異なっていても良い。nは6〜100の整数を示す。Xはフェニレン基又は、-COOCm H2m-(m=1〜5の整数)で示されるカルボニルオキシアルキレン基又は、-COOCm H2m-O-Cm H2m-(m=1〜5の整数)で示されるカルボニルオキシアルキレンオキシアルキレン基を示す。〕【化2】CH2 =CR1 -Y (2)(式中、R1 は水素原子又はメチル基であり、Yはベンゾフェノン基、ベンゾトリアゾール基のいずれかより選ばれる基を有する置換基。)
IPC (3件)：
C08F290/06
, C08F226/06
, C09D155/00
C08F290/06
, C08F226/06
, C09D155/00
