パターンの形成方法及び配線パターンの形成方法、電気光学装置及び電子機器

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：上柳雅誉 , 藤綱英吉 , 須澤修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-290657
公開番号（公開出願番号）：特開2005-062356
出願日： 2003年08月08日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：

【課題】簡易で低コストな装置構成により薄膜をパターニングできるパターンの形成方法を提供する。【解決手段】光エネルギーを熱エネルギーに変換する光熱変換材料を含む基材1上に薄膜2を設け、基材1に対して光を照射し、光が照射された照射領域に対応する薄膜2を除去することによりこの薄膜2をパターニングする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

光エネルギーを熱エネルギーに変換する光熱変換材料を含む基材上に薄膜を設け、前記基材に対して光を照射し、照射領域に対応する前記基材上の前記薄膜を除去することにより該薄膜をパターニングすることを特徴とするパターンの形成方法。

IPC (10件)：

G03F7/36 , B05D3/12 , B05D7/00 , G02F1/1343 , G03F7/004 , G03F7/11 , H01L21/027 , H05B33/10 , H05B33/14 , H05K3/10

FI (11件)：

G03F7/36 , B05D3/12 E , B05D7/00 H , G02F1/1343 , G03F7/004 505 , G03F7/11 , H05B33/10 , H05B33/14 A , H05K3/10 D , H05K3/10 E , H01L21/30 502D

Fターム (95件)：

2H025AA01 , 2H025AB13 , 2H025AB14 , 2H025AB17 , 2H025AD03 , 2H025BH01 , 2H025CA00 , 2H025CC11 , 2H025FA10 , 2H025FA21 , 2H092GA12 , 2H092GA24 , 2H092HA02 , 2H092HA06 , 2H092MA01 , 2H092MA04 , 2H092MA05 , 2H092MA10 , 2H092MA12 , 2H092MA22 , 2H092NA27 , 2H092PA01 , 2H096AA27 , 2H096AA28 , 2H096AA30 , 2H096BA20 , 2H096CA06 , 2H096EA04 , 2H096EA11 , 2H096EA16 , 2H096EA23 , 2H096GA43 , 3K007AB18 , 3K007DB03 , 3K007FA01 , 4D075AE03 , 4D075BB20Y , 4D075BB40Y , 4D075BB45Y , 4D075BB48Y , 4D075CA22 , 4D075CA36 , 4D075CB06 , 4D075CB08 , 4D075DA04 , 4D075DA06 , 4D075DB13 , 4D075DB33 , 4D075DB36 , 4D075DB38 , 4D075DB43 , 4D075DB48 , 4D075DB55 , 4D075DC19 , 4D075DC21 , 4D075DC24 , 4D075EA07 , 4D075EA10 , 4D075EA43 , 4D075EB07 , 4D075EB13 , 4D075EB14 , 4D075EB15 , 4D075EB16 , 4D075EB19 , 4D075EB22 , 4D075EB24 , 4D075EB35 , 4D075EB38 , 4D075EB39 , 4D075EB43 , 4D075EB47 , 4D075EC07 , 4D075EC10 , 4D075EC37 , 5E343AA02 , 5E343AA16 , 5E343AA26 , 5E343AA34 , 5E343AA38 , 5E343BB03 , 5E343BB08 , 5E343BB15 , 5E343BB22 , 5E343BB61 , 5E343BB72 , 5E343DD17 , 5E343EE02 , 5E343EE32 , 5E343EE36 , 5E343ER33 , 5E343ER45 , 5E343FF05 , 5E343GG11 , 5F046BA10

引用特許：

出願人引用 (1件)

有機単分子膜の形成方法とそのパターニング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-094349 出願人：セイコーエプソン株式会社

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