特許
J-GLOBAL ID：200903028435751234

オゾンで強化した過酸化水素蒸気汚染除去方法およびシステム

発明者：
センタンニ、ミヒャエル、エイ

センタンニ、ミヒャエル、エイ について


出願人/特許権者：
ステリス インク

ステリス インク について


代理人 (4件)： 板垣 孝夫 ,  森本 義弘 ,  笹原 敏司 ,  原田 洋平
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-543791
公開番号（公開出願番号）：特表2007-518954
出願日： 2004年07月16日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：
規定された領域を汚染除去する蒸気汚染除去システムである。システムは領域を規定するチャンバ24と、過酸化水素溶液と水から過酸化水素蒸気を生成する生成器32と、オゾンを導入する装置34とで構成される。過酸化水素蒸気とオゾンを領域に供給するため閉鎖環状循環システムが設けられる。破壊装置94は過酸化水素蒸気を分解する。オゾンを所望の濃度に維持するため、オゾンを導入する装置34を制御する制御装置132とセンサ36が設けられる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
規定された領域の汚染除去を行う蒸気汚染除去システムであって、前記システムは 領域を規定するチャンバと、 過酸化水素溶液と水から過酸化水素蒸気を生成し、過酸化水素蒸気をキャリアガスに導入する第1の生成器と、 前記キャリアガスにオゾンを導入する装置と、 前記過酸化水素蒸気と前記キャリアガスを前記領域に供給する閉鎖環状循環システムと、 前記過酸化水素蒸気を分解する破壊装置とを備える。
IPC (5件)：
F24F 3/16 ,  C01B 13/10 ,  A61L 2/20 ,  A61L 9/015 ,  A61L 9/02
FI (7件)：
F24F3/16 ,  C01B13/10 D ,  A61L2/20 A ,  A61L2/20 G ,  A61L2/20 J ,  A61L9/015 ,  A61L9/02
Fターム (26件)：
3L053BD05 ,  4C058AA01 ,  4C058AA23 ,  4C058BB07 ,  4C058DD01 ,  4C058DD11 ,  4C058DD14 ,  4C058EE26 ,  4C058JJ14 ,  4C058JJ16 ,  4C058JJ28 ,  4C058JJ29 ,  4C080AA03 ,  4C080BB05 ,  4C080BB06 ,  4C080HH02 ,  4C080KK02 ,  4C080KK03 ,  4C080MM01 ,  4C080MM08 ,  4C080QQ01 ,  4C080QQ12 ,  4C080QQ17 ,  4G042CA01 ,  4G042CB26 ,  4G042CE04
引用特許：
審査官引用 (3件)

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