特許
J-GLOBAL ID：200903028468353765
薬液供給装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下出 隆史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-200959
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037800
出願日： 1993年07月20日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 薬液の清浄度の向上と薬液の濃度の均一化との両立を図り、質の高い基板洗浄等の処理を提供する。【構成】 開閉バルブ33を開状態、開閉バルブ19を閉状態として、純水供給口30からの純水を処理槽1に供給する。その後、処理槽1が一杯になると、開閉バルブ33を閉状態に、開閉バルブ19を開状態に切り換えて、循環系5の管路11を閉じて、ポンプ13により処理槽1の純水を循環系5内で循環させる。続いて、ガス供給系9における開閉バルブ49を開いて、塩化水素ガス供給口40からの塩化水素ガスを循環系5内の混合ユニット17に供給する。この結果、その塩化水素ガスは混合ユニット17内で純水と混合し、薬液が合成される。
請求項（抜粋）：
基板処理に用いられる薬液を供給する薬液供給装置であって、基板の処理部もしくはその処理部に薬液を転送可能な補助槽を経路中に含む循環路と、前記循環路中に純水を供給する純水供給手段と、前記循環路中の純水に対して前記薬液の元となるガスを供給するガス供給手段とを備えた薬液供給装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 501
, H01L 21/30
, H01L 21/304 341
