特許
J-GLOBAL ID：200903028472790401

離型膜形成方法

発明者：
佐藤 保彦

佐藤 保彦 について


出願人/特許権者：
富士写真光機株式会社

富士写真光機株式会社 について


代理人 (1件)： 川野 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-145163
公開番号（公開出願番号）：特開平9-301722
出願日： 1996年05月14日
公開日（公表日）： 1997年11月25日
要約：
【要約】【目的】 光学素子をプレス成形する、上型、下型および胴型からなる成形用金型の少なくとも成形面に離型膜を形成する方法において、成形用金型の成形面にTiAlN膜を形成するとともに、このTiAlN膜の中心線平均粗さを略1nmに研磨することにより、金型と成形品との離型性を向上させつつ、金型の耐久性、耐熱性、耐酸化性および鏡面性等を向上させる。【構成】 上型31および下型32の成形面31a、32aに、スパッタリング法等により、TiAlN膜1を形成する。形成されたTiAlN膜1を中心線平均粗さが1nm程度となるまでを研磨する。これにより、熱による成形面31a、32aの変色、荒れ等を防止して、金型の耐久性、耐熱性等を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
光学素子のプレス成形に使用する、上型、下型および胴型からなる成形用金型に離型膜を形成する方法において、前記上型および下型の少なくとも成形面にTiAlN膜を形成し、該TiAlN膜を中心線平均粗さが略1nm以下となるように研磨することを特徴とする離型膜形成方法。
IPC (2件)：
C03B 11/00 ,  C03B 40/02
FI (2件)：
C03B 11/00 N ,  C03B 40/02
引用特許：
審査官引用 (23件)
  • 特開平2-129035
  • 特開平3-242334
  • 特開平3-242334
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