特許
J-GLOBAL ID:200903028473775929

軟磁性多層膜とこの軟磁性多層膜を用いた平面型磁気素子、フィルタ、及び薄膜磁気ヘッド、ならびに前記軟磁性多層膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 野▲崎▼ 照夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-223910
公開番号(公開出願番号):特開2000-054083
出願日: 1998年08月07日
公開日(公表日): 2000年02月22日
要約:
【要約】【課題】 従来、インダクタなどの磁性膜は、薄い膜厚を有する磁性膜と、絶縁膜とを交互に積層した多層膜構造で形成され、これにより、コア損失の低減と磁気的な飽和の防止を図っていた。ところが、前記軟磁性膜の組成と絶縁膜の組成は異なるため、成膜時に2つのターゲットが必要になることや、前記軟磁性膜と絶縁膜のエッチングレートの違いにより、加工性が悪化していた。【解決手段】 軟磁性多層膜5は、複数の軟磁性膜7の多層膜構造で形成されているが、各軟磁性膜7の表面には、高周波に対し電気容量を有する酸化膜あるいは窒化膜の変質層8が形成されている。前記変質層8は、軟磁性膜7の表面を酸化あるいは窒化することによって形成され、従って、軟磁性多層膜5は、軟磁性膜7の成膜に必要なターゲットのみで形成できる。
請求項(抜粋):
軟磁性膜の表面に、電気的な容量を有する酸化膜あるいは窒化膜の変質層が形成され、前記変質層が形成された軟磁性膜が多数積層されていることを特徴とする軟磁性多層膜。
IPC (6件):
C22C 38/00 303 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/31 ,  H01F 10/30 ,  H01F 17/00 ,  H01F 17/04
FI (6件):
C22C 38/00 303 S ,  G11B 5/127 K ,  G11B 5/31 C ,  H01F 10/30 ,  H01F 17/00 B ,  H01F 17/04 F
Fターム (24件):
5D033BA08 ,  5D033CA01 ,  5D033DA02 ,  5D033DA31 ,  5D093BC05 ,  5D093HA05 ,  5D093HA06 ,  5D093JA01 ,  5D093JA06 ,  5E049AA01 ,  5E049AA04 ,  5E049AA09 ,  5E049AC01 ,  5E049AC05 ,  5E049BA12 ,  5E049DB04 ,  5E049DB14 ,  5E070AA01 ,  5E070AA11 ,  5E070AB02 ,  5E070BA11 ,  5E070BB02 ,  5E070CB04 ,  5E070CB12
引用特許:
審査官引用 (6件)
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