特許

J-GLOBAL ID：200903028487801736

高透明ガスバリア性フィルムの製造方法

発明者： 坪井 誠治 ,  八幡 一雄 ,  原 寛 ,  田村 優次
出願人/特許権者： 帝人株式会社
代理人 (1件)： 前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-369807
公開番号（公開出願番号）：特開2000-192237
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：

【要約】【課題】 本発明の目的は、スパッタリング法により高分子フィルム上に成膜した場合、全長に渡って膜厚が一定で透過率、水蒸気バリア性、酸素バリア性が良好である金属酸化物薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】 高分子フィルム上にスパッタリング法を用いて金属酸化物層を成膜するに当たり、金属酸化物層は、珪素酸化物、アルミニウム酸化物及びマグネシウム酸化物からなる群より選ばれた少なくとも1種の酸化物からなり、成膜雰囲気中の水分圧が1x10-5Torr 以上2x10-4Torr以下の範囲内であるか、または成膜雰囲気中の水分と酸素との合計分圧が1x10-5 Torr以上2x10-4Torr以下の範囲内であることを特徴とする高透明ガスバリア性フィルムの製造方法。

請求項（抜粋）：

高分子フィルム上にスパッタリング法を用いて金属酸化物層を成膜するに当たり、金属酸化物層は、珪素酸化物、アルミニウム酸化物及びマグネシウム酸化物からなる群より選ばれた少なくとも1種の酸化物からなり、成膜雰囲気中の水分圧が1x10-5Torr以上2x10-4Torr以下の範囲内であることを特徴とする高透明ガスバリア性フィルムの製造方法。

IPC (4件)：

C23C 14/34 ,  B32B 9/00 ,  C08J 7/04 ,  C23C 14/08

FI (4件)：

C23C 14/34 M ,  B32B 9/00 A ,  C08J 7/04 P ,  C23C 14/08 K

Fターム (34件)：

4F006AA12 ,  4F006AA35 ,  4F006AA36 ,  4F006AA38 ,  4F006AA39 ,  4F006AA40 ,  4F006AB74 ,  4F006BA05 ,  4F006DA01 ,  4F100AA17B ,  4F100AA18B ,  4F100AA19B ,  4F100AA20B ,  4F100AK01A ,  4F100AK45 ,  4F100BA02 ,  4F100EA021 ,  4F100EH112 ,  4F100EH662 ,  4F100EJ582 ,  4F100GB15 ,  4F100GB41 ,  4F100JD03 ,  4F100JD04 ,  4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BC00 ,  4K029BC08 ,  4K029CA06 ,  4K029EA03 ,  4K029EA05

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 酸化物薄膜の成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-194329   出願人：キヤノン株式会社