特許
J-GLOBAL ID:200903028571207688
ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-277710
公開番号(公開出願番号):特開2007-086615
出願日: 2005年09月26日
公開日(公表日): 2007年04月05日
要約:
【課題】100nm以下の微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物であって、(B)成分の樹脂が、同一繰り返し単位内に環状炭化水素構造と特定の部分構造とを有する繰り返し単位を有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、
(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂
を含有するポジ型感光性組成物であって、
(B)成分の樹脂が、同一繰り返し単位内に環状炭化水素構造と下記一般式(I)で表される部分構造とを有する繰り返し単位を有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (3件):
G03F 7/039
, H01L 21/027
, C08F 20/38
FI (3件):
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, C08F20/38
Fターム (44件):
2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025FA17
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AR11P
, 4J100AR21P
, 4J100BA03P
, 4J100BA04Q
, 4J100BA11P
, 4J100BA15P
, 4J100BA16P
, 4J100BA20P
, 4J100BA34P
, 4J100BA40P
, 4J100BA58P
, 4J100BB07P
, 4J100BB18P
, 4J100BC02Q
, 4J100BC03P
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04P
, 4J100BC04Q
, 4J100BC08P
, 4J100BC08Q
, 4J100BC09P
, 4J100BC12P
, 4J100BC12Q
, 4J100BC43P
, 4J100BC53P
, 4J100BC58P
, 4J100CA01
, 4J100CA03
, 4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (1件)
-
ポジ型レジスト液
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-323783
出願人:富士写真フイルム株式会社
前のページに戻る