特許
J-GLOBAL ID:200903028641736551

有機薄膜の膜厚測定装置及び有機薄膜形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件): 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  岡部 讓 ,  臼井 伸一 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  朝日 伸光 ,  三山 勝巳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-229306
公開番号(公開出願番号):特開2008-051699
出願日: 2006年08月25日
公開日(公表日): 2008年03月06日
要約:
【課題】膜厚を光学的に測定する有機EL用の光学式膜厚測定装置において、簡素な構成で正確に膜厚を測定する。【解決手段】構造体に成膜される有機薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置において、少なくとも成膜中に構造体に所定の波長の照射光を投光する手段、照射光に対する構造体からの反射光強度又は透過光強度を検出する手段、及び反射光強度又は透過光強度に基づいて有機薄膜の膜厚を特定する手段からなり、所定の波長が、有機薄膜を構成する有機物の吸収スペクトルについて、吸光度のピーク値に対して20%以下、好ましくは10%以下、の吸光度を与える波長範囲に含まれるようにした。【選択図】図1
請求項(抜粋):
構造体に成膜される有機薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であって、少なくとも成膜中に該有機薄膜に所定の波長の照射光を投光する手段、該照射光に対する該有機薄膜からの反射光強度又は透過光強度を検出する手段、及び該反射光強度又は該透過光強度に基づいて該有機薄膜の膜厚を特定する手段からなり、 該所定の波長が、該有機薄膜を構成する有機物の吸収スペクトルについて、吸光度のピーク値に対して20%以下の吸光度を与える波長範囲に含まれることを特徴とする膜厚測定装置。
IPC (4件):
G01B 11/06 ,  C23C 14/54 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50
FI (4件):
G01B11/06 Z ,  C23C14/54 E ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (29件):
2F065AA30 ,  2F065CC31 ,  2F065FF44 ,  2F065GG21 ,  2F065JJ00 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL26 ,  2F065LL67 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ25 ,  2F065TT00 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC01 ,  3K107CC45 ,  3K107FF06 ,  3K107GG04 ,  3K107GG32 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029DA03 ,  4K029DB06 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18 ,  4K029EA01 ,  4K029HA01
引用特許:
出願人引用 (1件)

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