特許

J-GLOBAL ID：200903028715963245

測定装置および測定方法

発明者： 清水 秀夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-134278
公開番号（公開出願番号）：特開2005-315742
出願日： 2004年04月28日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：

【課題】一度に多数の被測定パターンの線幅や断面形状を測定することができる測定装置および測定方法を提供する。【解決手段】光源2からの入射光は、光分割手段3の複数の反射板31により異なる方向に反射され、各反射光は被測定基板10の複数の被測定パターン11にそれぞれ照射される。被測定パターン11は、例えばラインアンドスペースパターンにより構成される。被測定基板10の各被測定パターン11に光が照射されると、各被測定パターンから回折光が発生し、光学系5を通って受光手段6により受光される。データ処理手段7は、予め基準形状に対する理論スペクトルを備え、検出された回折光のスペクトルに最も近い理論スペクトルを検索することにより、被測定パターン11の線幅あるいは断面形状を特定する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光源と、 前記光源からの入射光を複数に分割し、分割した光を被測定基板の複数の被測定パターンにそれぞれ照射させる光分割手段と、 各被測定パターンからの反射あるいは回折光を検出する受光手段と、 前記受光手段により検出された光強度に基づいて、各被測定パターンの線幅あるいは断面形状を特定するデータ処理手段と を有する測定装置。

IPC (3件)：

G01B11/24 ,  G01B11/04 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G01B11/24 D ,  G01B11/04 G ,  H01L21/30 502V

Fターム (26件)：

2F065AA22 ,  2F065AA52 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF48 ,  2F065FF61 ,  2F065GG24 ,  2F065HH04 ,  2F065HH09 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065LL12 ,  2F065LL33 ,  2F065LL34 ,  2F065LL36 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ44 ,  2F065RR06 ,  2F065UU07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 所定のフォトリソグラフィ工程に従って基板を加工する装置及びその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-200558   出願人：ノバ・メジャリング・インストルメンツ・リミテッド