特許
J-GLOBAL ID:200903028719051780

絶縁層が形成された太陽電池用基板およびその製造方法、ならびにそれを用いた太陽電池およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 鎌田 耕一 ,  黒田 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-116776
公開番号(公開出願番号):特開2006-295035
出願日: 2005年04月14日
公開日(公表日): 2006年10月26日
要約:
【課題】 ピンホール部の絶縁性が確保された絶縁層を含む太陽電池用基板およびその製造方法、ならびに、その基板を用いた太陽電池、および太陽電池の製造方法を提供する。 【解決手段】 (i)金属板11上に、ゾル・ゲル法で第1の絶縁材料からなる絶縁層12を形成する工程と、(ii)絶縁層12のピンホール部分に面する金属板11の表面に、第2の絶縁材料からなる絶縁部14を形成する工程とを含む。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
(i)金属板上に、ゾル・ゲル法で第1の絶縁材料からなる絶縁層を形成する工程と、 (ii)前記絶縁層のピンホール部分に面する前記金属板の表面に、第2の絶縁材料からなる絶縁部を形成する工程とを含む太陽電池用基板の製造方法。
IPC (2件):
H01L 31/04 ,  H01L 21/316
FI (2件):
H01L31/04 H ,  H01L21/316 M
Fターム (9件):
5F051CB11 ,  5F051CB24 ,  5F058BD04 ,  5F058BD05 ,  5F058BF41 ,  5F058BF46 ,  5F058BF52 ,  5F058BH01 ,  5F058BJ04
引用特許:
出願人引用 (1件)

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