特許
J-GLOBAL ID：200903028736862635

欠陥検査装置および欠陥検査方法、およびこれを用いた露光装置および露光方法

発明者：
西坂 武士

西坂 武士 について

, 
室岡 賢一

室岡 賢一 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-270272
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098590
出願日： 1998年09月24日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：
【要約】【課題】 位相シフトパターンやソフト欠陥の検出が高感度で可能な欠陥検査装置を提供する。【解決手段】 第1の検査光をフォトマスク5に照射し、透過した光を検出器7によって検出する透過照明系2と、フォトマスク5の側面から第2の検査光を、フォトマスク5中に照射する側面照明系4とを有する。この側面照明系4によりフォトマスク5内に所定の入射角で第2の検査光を誘導する。フォトマスク5の表面に何も付着していない場合は、第2の検査光は全て反射するが、フォトマスク5の表面上に光透過性のある欠陥が付着していると、第2の検査光はマスク面から欠陥内へと進み、欠陥内から大気中へ漏れ出す。この漏れ出した第2の検査光を対物レンズ122で集光し、検出器7により検出する。
請求項（抜粋）：
対向する第1及び第2の主表面を有する透明な被測定試料の前記第2の主表面上に配置されたパターンの欠陥を検出する装置であって、前記被測定試料の屈折率と前記被測定試料の雰囲気の屈折率とで決定される全反射する角度となるように、前記第2の主表面に対する前記被測定試料中での入射角を調整し、前記被測定試料の側面方向から検査光を入射させる側面照明系と、前記第2の主表面から出射した前記検査光を集光する光学系と、該光学系で集光された前記検査光を検出する検出器とから少なくとも構成されたことを特徴とする欠陥検出装置。
IPC (4件)：
G03F 1/08 ,  G01N 21/88 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 1/08 S ,  G03F 7/20 521 ,  G01N 21/88 620 ,  G01N 21/88 645 A ,  H01L 21/30 502 V
Fターム (14件)：
2G051AA41 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BB01 ,  2G051BB03 ,  2G051CA06 ,  2G051CD03 ,  2G051CD07 ,  2G051DA07 ,  2H095BD04 ,  2H095BD05 ,  2H095BD11 ,  2H095BD19 ,  2H095BD21
引用特許：
審査官引用 (2件)

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