特許
J-GLOBAL ID：200903028737185386
吸着不良原因推定システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-091235
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284900
出願日： 1997年04月10日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】【課題】 不良発生要因を容易に知ることができ、生産効率を向上するとともに生産ミスが低減できる吸着不良原因推定システムを提供する。【解決手段】 吸/装着エラー集計部1による吸着/装着エラー集計結果と、設備実装条件の変更の発生を記録する設備条件変更記録部2による設備条件変更結果とに基づいて、不良原因推定部3により吸着不良原因を自動的に推定し、その推定結果を結果表示部4により表示する。
請求項（抜粋）：
プリント基板上に電子部品を実装する電子部品実装設備において、吸着/装着の際の不良原因を推定する吸着不良原因推定システムであって、前記実装の際の吸着ないしは装着エラーの発生を記録する吸/装着エラー集計部と、前記実装の際に発生する設備条件の変更状況を記録する設備条件変更記録部と、一定条件を満たすと、前記吸/装着エラー集計部と設備条件変更記録部の結果をもとに、不良原因を自動的に推定する不良原因推定部と、前記不良原因推定部による推定結果を表示する結果表示部とを備えた吸着不良原因推定システム。
IPC (2件)：
H05K 13/08
, G05B 23/02 302
H05K 13/08 Z
, G05B 23/02 302 Y
