異物検査装置およびその方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-110190
公開番号（公開出願番号）：特開平6-324003
出願日： 1993年05月12日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】基板上にパターンを形成して対象物を製作していく製造工程で、発生する異物等の欠陥を検出し、分析して対策を施す製造工程における異物発生状況を検査する異物検査装置およびその方法に関する。【構成】照明手段102、検出光学系103、空間フィルターユニット106、検出器107、オペアンプ201、A/D変換器202より構成される検出ヘッド101、ピッチ検出手段212、オペレータ処理系203、異物データメモリ206、大異物データメモリ207、パターンメモリ208、ソフト処理系201、パラメータ伝達手段209、異物メモリ211、座標データ作成手段232、マイクロコンピュータ229、表示手段230より構成される。

請求項（抜粋）：

ピッチの異なる繰り返しパターンを有する基板に対して平面波の光を直線状にして照射する照明系と、該照明系によって照射された基板からの反射光像を結像する結像光学系と、該結像光学系の途中に基板上のピッチの小さな繰り返しパターンからの回折光を遮光するように設置された空間フィルターと、該空間フィルターを通して得られ、前記結像光学系で結像された光像を検出する検出器と、該検出器で検出された信号を対数信号に変換する対数信号変換手段と、該対数信号変換手段によって変換された検出器上の1つの画素の対数信号レベルと前記対数信号変換手段によって変換された検出器で取り込まれた隣接する繰り返しパターンの対応する個所の画素の対数信号レベルおよび該対応する個所に近接した複数の画素の対数信号レベルとを比較して、該対応する個所或いは近接する個所の信号レベルのなかに1つの画素の信号レベルと同等の値の画素が存在した場合検出器上の1つの画素で検出された信号は繰り返しパターンからの信号であると判断して繰り返しパターンを消去し、更に前記対数信号変換手段によって変換された検出器上の1つの画素の対数信号レベルと前記対数信号変換手段によって変換された検出器で取り込まれた隣接する繰り返しパターンの対応する個所の画素の対数信号レベルおよび該対応する個所に近接した複数の画素の対数信号レベルとを比較して差または比率信号を得、該差または比率信号を複数の閾値と比較して複数の種類の異物判定を行なう異物検出手段とを備えたことを特徴とする異物検査装置。

IPC (2件)：

G01N 21/88 , H01L 21/66

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平1-153943
特開平4-158247
特開平2-038951

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審査官引用 (16件)

特開平2-038951
特開平1-153943
特開平1-153943

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