特許
J-GLOBAL ID:200903028757329007

露光装置及び露光方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 千葉 剛宏 ,  宮寺 利幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-164849
公開番号(公開出願番号):特開2006-337873
出願日: 2005年06月03日
公開日(公表日): 2006年12月14日
要約:
【課題】アライメントカメラの位置の校正、露光ヘッドの位置の校正の頻度やタイミングを最適化して、露光精度の向上、再現性(ワーク間並びに露光装置間において一定の精度を有する特性)の向上を図る。【解決手段】ステージ上に固定された基準スケールに基づいて少なくともアライメントセンサの校正値を求める校正ステップ(S705、S706)と、前記校正値に基づいて前記ワークに形成された前記アライメントマークを測定する測定ステップ(S707)と、少なくとも前記校正ステップによる校正値と前記測定ステップによる測定値に基づいて前記ワークに対して画像の露光を行う露光ステップ(S708)とを有し、前記基準スケールの基準面と前記ワークの基準面をそれぞれ露光基準面に合わせた(S703)後に、前記校正ステップによる校正処理と、前記測定ステップによる測定処理を連続して行うように制御する。【選択図】図27
請求項(抜粋):
露光ヘッドを有し、ステージ上に配されたワークに前記露光ヘッドによって画像を露光する露光装置において、 前記ワークに形成されたアライメントマークを測定するためのアライメントセンサと、 前記ステージ上に固定された基準スケールに基づいて少なくとも前記アライメントセンサの校正値を求める校正手段と、 前記校正値に基づいて前記ワークに形成された前記アライメントマークを測定する測定手段と、 少なくとも前記校正手段による校正値と前記測定手段による測定値に基づいて前記ワークに対して画像の露光を行う露光手段と、 前記基準スケールの基準面と前記ワークの基準面をそれぞれ露光基準面に合わせた後に、前記校正手段による校正処理と、前記測定手段による測定処理を連続して行うように制御する制御手段とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (1件):
G03F 9/00
FI (1件):
G03F9/00 Z
Fターム (11件):
2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097BA01 ,  2H097CA06 ,  2H097CA17 ,  2H097KA01 ,  2H097KA11 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097LA09 ,  2H097LA12
引用特許:
出願人引用 (2件)

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