特許
J-GLOBAL ID：200903028771044317
レーザ加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-089594
公開番号（公開出願番号）：特開平6-326337
出願日： 1993年04月16日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：
【要約】【目的】 ステージの一方の面にセットされた被加工物に対し、レーザビームを、前記ステージの他方の面から前記ステージを透過して照射することのできるレーザ加工装置を提供する。【構成】 ガラス等の光学的に透明な材料でできたステージ101を有し、このステージ101上に、透明ガラス基板7が下になり、膜11が上になるよう被加工物2をセットした状態で、ステージ101の下方から、レーザビーム3bを、ステージ101及び透明ガラス基板7を透過して膜11に照射して、この膜11を加工することが可能なものである。
請求項（抜粋）：
光学的に透明な領域を有するステージと、該ステージの一方の面上にセットされた被加工物に対し、レーザビームを前記ステージの他方の面から前記光学的に透明な領域を透過して照射せしめるレーザビーム照射手段とを有することを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (5件)：
H01L 31/04
, B23K 26/10
, C23F 4/04
, H01L 21/28 301
, B23K101:42
