特許

J-GLOBAL ID：200903028784455120

高分子光導波路の製造方法

発明者： 佐々木 淳 ,  石崎 守 ,  塚本 健人
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-398109
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195078
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【目的】紫外線硬化タイプの高分子導波路材を転移工程に伴う形状の変化を防止し、優れた印刷品質で光導波路形成ができ、また、印刷を繰り返しても優れた品質を維持することが可能であり、よって、容易となり、低コストでの高分子光導波路の製造方法を提供する。【構成】コアとクラッドが紫外線により硬化する高分子導波路において、凹版25の凹部26に高分子光導波路材11を充填し、ブランケット21に転移させると共に、該高分子光導波路材11にUV照射を行い、この後、ブランケット21からガラスエポキシ基板10に転移させ高精度パターンの光導波路を形成する。なお、紫外線を前記ブランケットおよび/または凹版の裏面から照射することも含まれる。

請求項（抜粋）：

コアとクラッドを基板表面に形成する高分子光導波路の製造方法であって、凹版表面の凹部に充填された紫外線硬化型光導波路材をブランケットの表面に転移させるとともに、前記高分子光導波路材に紫外線を照射し、次いでこの高分子光導波路材をブランケットから基板表面に転移させ光配線を形成することを特徴とする高分子光導波路の製造方法。

Fターム (9件)：

2H047KA02 ,  2H047KA04 ,  2H047KA05 ,  2H047PA01 ,  2H047PA11 ,  2H047PA26 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05 ,  2H047TA36

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光硬化型無機・有機ハイブリッド材料とそれより成る三次元光導波路
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-068111   出願人：新日本製鐵株式会社
• ハイブリッド有機無機プレーナ光導波路装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-526964   出願人：コーニングインコーポレイテッド