特許

J-GLOBAL ID：200903028794296364

スパッタリング装置

発明者： 小林 大士 ,  清田 淳也 ,  堀下 芳邦 ,  依田 英徳 ,  佐藤 重光 ,  中島 利夫
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (1件)： 特許業務法人エクシオ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-003445
公開番号（公開出願番号）：特開2007-186726
出願日： 2006年01月11日
公開日（公表日）： 2007年07月26日
要約：

【課題】 交流電源を用いたスパッタリング装置を、その設置場所と交流電源の設置場所との間の距離に依存せず、精度の良く電力投入できるように構成する。【解決手段】 真空チャンバ11内に、一対のターゲット41a、41bと、この一対のターゲットに対し所定の周波数で交互に極性をかえて電圧を印加する交流電源Eとを設ける。交流電源Eを、電力の供給を可能とする電力供給部6と、この電力供給部からの電力ラインに接続された発振用スイッチ回路72を有する発振部7とに分けて構成し、この発振部と各ターゲットとをブスバー8によって連結する【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内に設けた一対のターゲットと、この一対のターゲットに対し所定の周波数で交互に極性をかえて電圧を印加する交流電源とを備え、この交流電源を、電力の供給を可能とする電力供給部と、この電力供給部からの電力ラインに接続された発振用スイッチ回路を有する発振部とに分けて構成し、この発振部と各ターゲットとをブスバーによって連結したことを特徴とするスパッタリング装置。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/35 ,  H05H 1/24

FI (3件)：

C23C14/34 T ,  C23C14/35 B ,  H05H1/24

Fターム (6件)：

4K029CA05 ,  4K029DC16 ,  4K029DC33 ,  4K029DC39 ,  4K029DC46 ,  4K029KA02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• スパッタリング装置
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2002007719   出願人：日本板硝子株式会社
• スパッタリング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-040668   出願人：株式会社アルバック
• プラズマ装置における高周波給電装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-237786   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (2件)

• スパッタリング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-040668   出願人：株式会社アルバック
• プラズマ装置における高周波給電装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-237786   出願人：東京エレクトロン株式会社