特許

J-GLOBAL ID：200903028818610545

マイクロ波励起の洗浄方法およびその装置

発明者： 青木 秀充
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-296319
公開番号（公開出願番号）：特開平10-137704
出願日： 1996年11月08日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：

【要約】【課題】半導体の製造プロセスの洗浄工程において使用されるマイクロ波励起の洗浄方法およびその装置において、微細な穴内部に付着する汚染物を効果的に除去し高精度に洗浄することを目的とする。【解決手段】シリコン基板6を洗浄液4で満たされている石英製洗浄槽3に浸漬し、外部からマイクロ波(周波数は0.4〜25GHz)を照射することで、洗浄液4の表面張力を弱め活性化しシリコン基板6を洗浄処理する。

請求項（抜粋）：

被洗浄物が浸漬されている純水または薬液の洗浄液にマイクロ波を照射し前記被洗浄物を洗浄処理することを特徴とするマイクロ波励起の洗浄方法。

IPC (2件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 341

FI (2件)：

B08B 3/12 A ,  H01L 21/304 341 M

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-073626
  
• 特開平1-316935
  
• 衝突熱伝達を利用した加熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-257258   出願人：株式会社フジマック