特許

J-GLOBAL ID：200903028898563321

ビスフェノールAの製造方法

発明者： 松尾 真嗣 ,  佐倉 克彦 ,  自見 和芳 ,  大西 章平
出願人/特許権者： 新日鐵化学株式会社
代理人 (1件)： 佐野 英一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-090472
公開番号（公開出願番号）：特開平9-255607
出願日： 1996年03月19日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：

【要約】【課題】 原料中に含まれる触媒劣化原因化合物を除去し、使用する酸性イオン交換樹脂触媒の寿命延長化を計る。【解決手段】 過剰のフェノールとアセトンを酸性イオン交換樹脂触媒下反応させてビスフェノールAを生成させ、これをフェノールとのアダクト結晶として析出させる結晶分離工程に送り、分離されたビスフェノールAとフェノールのアダクト結晶を脱フェノール処理することにより精製ビスフェノールAを回収するビスフェノールAの製造方法において、アセトンと反応させるフェノールの少なくとも一部は、結晶分離工程から得られる原料フェノールを吸着処理したものを使用し、この吸着処理で使用する吸着剤が前記イオン交換樹脂触媒に対して3〜25容量%であることを特徴とするビスフェノールAの製造方法。

請求項（抜粋）：

過剰のフェノールとアセトンを酸性イオン交換樹脂触媒下反応させてビスフェノールAを生成させ、これをフェノールとのアダクト結晶として析出させる結晶分離工程に送り、分離されたビスフェノールAとフェノールのアダクト結晶を脱フェノール処理することにより精製ビスフェノールAを回収するビスフェノールAの製造方法において、アセトンと反応させるフェノールの少なくとも一部は、結晶分離工程から得られる原料フェノールを吸着処理したものを使用し、この吸着処理で使用する吸着剤が、前記酸性イオン交換樹脂触媒に対して3〜25容量%であることを特徴とするビスフェノールAの製造方法。

IPC (6件)：

C07C 39/16 ,  B01J 31/08 ,  C07C 37/20 ,  C07C 37/82 ,  C07C 37/84 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

C07C 39/16 ,  B01J 31/08 X ,  C07C 37/20 ,  C07C 37/82 ,  C07C 37/84 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特公昭55-034779
  
• ビスフェノールAの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-283476   出願人：新日鐵化学株式会社, 千代田化工建設株式会社