光加工装置及び方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：曾我道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-157605
公開番号（公開出願番号）：特開平8-047790
出願日： 1994年07月08日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：

【要約】【目的】転写倍率を自動的に所定の値に調整することができると共にマスクやワークを交換時しても転写倍率を一定に保持することができ、また、マスク機能を長期間に亙って良好に維持することができる光加工装置及び方法を提供する。【構成】マスク3とワーク7との間の距離を変化させる転写倍率変更機構51,61と、パターン像とパターンとの比である実転写倍率値を演算し、実転写倍率値と目標転写倍率値との差が許容値を超えていると判断した場合に、実転写倍率値が目標転写倍率値になるマスク・転写レンズ・ワーク間距離を演算して、マスク・転写レンズ・ワーク間距離がこの演算値に一致するように転写倍率変更機構51,61を制御する中央制御装置9とを備えている。

請求項（抜粋）：

所定パターンを有するマスクに光を照射するための光源系と、上記マスクのパターン像をワークに転写するための転写レンズと、上記マスクを上記転写レンズの光軸に対して垂直に移動させるためのマスク移動機構と、上記ワークを上記光軸に対して垂直に移動させるためのワーク移動機構と、上記マスク・転写レンズ・ワーク間距離を変化させる転写倍率変更機構と、上記転写されたパターン像と上記所定パターンとの比である実転写倍率値を演算する実転写倍率演算部、この実転写倍率値と目標転写倍率値との差が許容値以内か否かを判断する倍率判断部、この倍率判断部により上記差が許容値を超えていると判断された場合に、上記実転写倍率値と目標転写倍率値とから実転写倍率値が目標転写倍率値になるマスク・転写レンズ・ワーク間距離を演算し、マスク・転写レンズ・ワーク間距離がこの演算値に一致するように上記転写倍率変更機構を制御する光軸移動制御部、及び上記マスク移動機構とワーク移動機構とを制御する移動制御部を有する中央制御装置と、を備えることを特徴とする光加工装置。

IPC (4件)：

B23K 26/06 , B23K 26/00 , H05K 3/00 , H05K 3/46

引用特許：

審査官引用 (1件)

レーザ加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-235949 出願人：浜松ホトニクス株式会社

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