特許
J-GLOBAL ID:200903029032033400
帯電装置、プロセス装置及び画像形成装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
谷川 昌夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-409445
公開番号(公開出願番号):特開2005-172946
出願日: 2003年12月08日
公開日(公表日): 2005年06月30日
要約:
【課題】帯電部材と被帯電体との間に粒子を介在させて被帯電体の帯電を行う帯電装置であって、被帯電体を、粒子消費を低減して且つ簡易に長期にわたり安定して帯電させることができる帯電装置を提供する。さらに、かかる帯電装置を備えたプロセス装置及び画像形成装置を提供する。【解決手段】帯電部材211と被帯電体(像担持体、感光体)1との接触部より下流側で被帯電体1に付着した粒子10を回収し、回収した粒子を帯電部材211と被帯電体1との間に再供給するためのリサイクル機構22、24、25又は26を備えた帯電装置2A、2B、2C又は2D。かかる帯電装置を備えたプロセス装置及び画像形成装置。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被帯電体に接触する帯電部材を有し、該帯電部材と該被帯電体との間に粒子を介在させて該被帯電体の帯電を行う帯電装置であり、前記帯電部材と前記被帯電体との接触部より前記被帯電体の表面移動方向において下流側で該被帯電体に付着した前記粒子を回収し、回収した該粒子を前記帯電部材と前記被帯電体との間に再供給するためのリサイクル機構を備えたことを特徴とする帯電装置。
IPC (4件):
G03G15/02
, G03G5/147
, G03G15/08
, G03G21/00
FI (6件):
G03G15/02 101
, G03G15/02 103
, G03G5/147 503
, G03G21/00
, G03G15/08 507B
, G03G15/08 507D
Fターム (65件):
2H068AA04
, 2H068FC01
, 2H077AD06
, 2H077GA01
, 2H077GA12
, 2H077GA17
, 2H134GA01
, 2H134GB02
, 2H134HF12
, 2H134HF13
, 2H134KD02
, 2H134KD04
, 2H134KD12
, 2H134KG01
, 2H134KG03
, 2H134KG07
, 2H134KG08
, 2H134KH01
, 2H134KH06
, 2H134KH15
, 2H134KJ02
, 2H134MA02
, 2H134MA03
, 2H134MA04
, 2H134MA05
, 2H134MA07
, 2H200FA02
, 2H200FA07
, 2H200FA17
, 2H200FA18
, 2H200GA14
, 2H200GA23
, 2H200GA34
, 2H200GA44
, 2H200GA47
, 2H200GB37
, 2H200HA02
, 2H200HA21
, 2H200HA28
, 2H200HB08
, 2H200HB12
, 2H200HB14
, 2H200HB17
, 2H200HB20
, 2H200HB22
, 2H200HB45
, 2H200HB46
, 2H200HB47
, 2H200HB48
, 2H200JA02
, 2H200LA38
, 2H200LA40
, 2H200MA01
, 2H200MA04
, 2H200MA05
, 2H200MA06
, 2H200MA20
, 2H200MB01
, 2H200MB04
, 2H200MC11
, 2H200MC15
, 2H200NA02
, 2H200NA06
, 2H200NA09
, 2H200NA10
引用特許:
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