特許
J-GLOBAL ID：200903029073727450

防食用チタン酸化膜の作製方法および防食用チタン酸化膜

発明者：
久保田 伸彦

久保田 伸彦 について

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勝谷 涼一

勝谷 涼一 について

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綾部 統夫

綾部 統夫 について


出願人/特許権者：
石川島播磨重工業株式会社

石川島播磨重工業株式会社 について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-290889
公開番号（公開出願番号）：特開平10-130810
出願日： 1996年10月31日
公開日（公表日）： 1998年05月19日
要約：
【要約】【課題】 光半導体としての機能向上させて防食性を高め、被防食材への密着性を確保するとともに、成膜時の作業性を向上させる。【解決手段】 高温のプラズマ流によって溶融状態のn型TiO2 粒子を被防食材に溶着させ、溶着させたTiO2 膜の上にn型TiO2 粒子による光半導体膜を溶着させるとともに、プラズマ流の温度を徐々に低くして表面のn型TiO2粒子の比率を高くする。
請求項（抜粋）：
n型TiO2 粒子をプラズマ流に乗せて被防食材(1)の表面に溶射することにより光半導体特性を有するTiO2 膜(X)を作製する方法であって、TiO2 粒子を溶融して被防食材に溶融凝固層(2)を作製する工程と、プラズマ溶射温度を高温から低温にしてn型TiO2 粒子を溶着させることにより粒子層(4)を作製する工程とを有することを特徴とする防食用チタン酸化膜の作製方法。
IPC (4件)：
C23C 4/12 ,  C23C 4/10 ,  C23F 15/00 ,  G21D 1/00 GDL
FI (4件)：
C23C 4/12 ,  C23C 4/10 ,  C23F 15/00 ,  G21D 1/00 GDL W
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (3件)

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