特許
J-GLOBAL ID：200903029073853234

露光方法及び露光装置

発明者：
川平 博一

川平 博一 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-105126
公開番号（公開出願番号）：特開平11-297608
出願日： 1998年04月15日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：
【要約】【課題】 フォトリソグラフィ技術利用の露光技術について、線幅規格が許容範囲内に入るとともに、欠陥発生数も低減させ得るように露光量、及びフォーカスを設定できる、露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】 フォトリソグラフィプロセスにおける露光方法及び露光装置で、転写線幅の露光量依存性、フォーカス依存性、及び欠陥発生歩留りを考慮して最適露光、及び最適フォーカスを設定し、例えば、露光量及びフォーカスの条件を振った場合に被露光材1に発生した欠陥を検査し、該欠陥発生数が許容レベル以下となる露光量及びフォーカスの条件範囲を見出し、該範囲と、測定した線幅規格が許容範囲内に入る露光量及びフォーカスの条件範囲との事象積から最適条件を決定する。
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィプロセスにおける露光方法であって、転写線幅の露光量依存性、フォーカス依存性、及び欠陥発生歩留りを考慮して最適露光、及び最適フォーカスを設定することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/207
FI (3件)：
H01L 21/30 516 D ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 526 Z
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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