マーク検出方法及びその装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-201811
公開番号（公開出願番号）：特開平11-045849
出願日： 1997年07月28日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：

【要約】【課題】従来の方法は、高精度の検出を行うためには、メモリからモデル波形を読み出すときのシフト量を小さくして比較を繰り返さなければならず、位置合わせマークの位置検出に要する時間が長くなる。【解決手段】検出信号波形の基準となる基準波形を所定シフト量ずつ順次シフトした複数の基準波形を予め記憶しておき、検出信号波形を前記複数の基準波形夫々と同時に比較し、検出信号波形と最も相関の高い基準波形のシフト量を前記マークの位置情報とする。このため、高精度にマーク位置を検出することが可能となり、また、検出信号波形を、順次シフトした複数の基準波形と同時に比較することにより、高速にマーク位置を検出でき、短時間の検出が可能となる。

請求項（抜粋）：

半導体基板上に形成されたマークを荷電粒子ビームで走査し、反射荷電粒子ビームを検出した検出信号波形から前記マークの位置を検出するマーク検出方法において、前記検出信号波形の基準となる基準波形を所定シフト量ずつ順次シフトした複数の基準波形を予め記憶しておき、前記検出信号波形を前記複数の基準波形夫々と同時に比較し、前記検出信号波形と最も相関の高い基準波形のシフト量を前記マークの位置情報とすることを特徴とするマーク検出方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G01B 15/00

FI (3件)：

H01L 21/30 507 Z , G01B 15/00 B , H01L 21/30 541 K

引用特許：

審査官引用 (5件)

荷電粒子ビーム露光装置及びその制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-317106 出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
特開平4-074906
特開昭62-133566

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