特許
J-GLOBAL ID：200903029132355146

シクロブテン系化合物,その製法並びにスクアリリウム系化合物の製造法

発明者：
中澄 博行

中澄 博行 について


出願人/特許権者：
三菱化成株式会社

三菱化成株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-052282
公開番号（公開出願番号）：特開平6-263732
出願日： 1993年03月12日
公開日（公表日）： 1994年09月20日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】 式〔I〕のシクロブテン系化合物、及びこれを式〔II〕のインドリン系化合物と、1,2-ジクロロ-1-シクロブテン-3,4-ジオンとを反応させることによって製造する方法。並びに式〔I〕のシクロブテン系化合物と2-メチル複素環誘導体とを反応させることによる式〔IV〕の非対称型スクアリリウム系化合物の製造方法。[式中、R1,R2はアルキル基を示し、あるいは互に連絡して環を形成する。R3,R4は(置換)アルキル基を示し、環Aは(置換)ベンゼン環、あるいは(置換)ナフタリン環、環Bは含窒素複素環である]【効果】 スクアリリウム系化合物は、長波長光に吸収を有するので、レーザー製版等の分野に非常に有用である。
請求項（抜粋）：
下記一般式〔I〕で示されるシクロブテン系化合物【化1】(R1 ,R2 はアルキル基を示し、互いに連絡して環を形成してもよい。R3 は置換基を有していてもよいアルキル基を示し、環Aは置換基があってもよいベンゼン環またはナフタリン環を示す。)
IPC (18件)：
C07D209/96 ,  C07D209/12 ,  C07D209/60 ,  C07D401/08 209 ,  C07D405/06 209 ,  C07D405/14 209 ,  C07D417/08 209 ,  C09B 57/00 ,  G02F 1/35 504 ,  G03G 5/06 384 ,  C07D401/08 ,  C07D209:00 ,  C07D215:00 ,  C07D405/06 ,  C07D307:00 ,  C07D405/14 ,  C07D417/08 ,  C07D277:00
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 特開平4-106548
  • 特開平2-190390
  • 特開平3-188063
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