特許

J-GLOBAL ID：200903029153594795

近接場光発生装置

発明者： 松本 拓也 ,  木口 雅史 ,  助田 裕史
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-308153
公開番号（公開出願番号）：特開2003-114184
出願日： 2001年10月04日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：

【要約】【課題】本発明は、高分解能、高効率な近接場光プローブを提供することを目的とする。【解決手段】基板表面に形成された幅が徐々に小さくなった平面状の散乱体11を用いて近接場光を発生させる。このとき散乱体11の面積を光スポットの面積より小さくし、さらに散乱体の材質、形状、寸法をプラズモン共鳴が発生するように設定することにより、近接場光強度を増強する。【効果】 光の光利用効率の近接場光発生装置を得ることができる。

請求項（抜粋）：

光源と、近接場光を発生させる1の頂点の方向に向かい幅が小さくなった導電性の散乱体を備え、前記散乱体の面積は、前記光源から前記散乱体に照射される光のスポット面積より、または前記散乱体に照射される光の波長の2乗より小さいようにされたことを特徴とする近接場光発生装置。

IPC (2件)：

G01N 13/14 ,  G02B 21/00

FI (2件)：

G01N 13/14 B ,  G02B 21/00

Fターム (1件)：

2H052AF19

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光ヘッド、光磁気ヘッド、ディスク装置、および光ヘッドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-395169   出願人：富士ゼロックス株式会社
• 近接場光プローブおよびそれを用いた近接場光学顕微鏡および光記録/再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-073922   出願人：株式会社日立製作所
• 光ヘッド、光磁気ヘッド、ディスク装置、および光ヘッドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-376777   出願人：富士ゼロックス株式会社
• 近接場光ヘッド、近接場光ヘッドの加工方法および光記録再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-066489   出願人：株式会社日立製作所