特許

J-GLOBAL ID：200903029180748010

陽子放出治療用システム

発明者： ペドローニ・エーロス
出願人/特許権者： パウル・シェラー・インスティトゥート
代理人 (3件)： 江崎 光史 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-509893
公開番号（公開出願番号）：特表2007-534391
出願日： 2005年02月19日
公開日（公表日）： 2007年11月29日
要約：

【解決手段】 対象物(M)内の所定容積(T)の強度調整陽子治療用システムが開示され、a)ビーム強度に関して調整できる陽子ビーム(B)を発生させるための陽子源と;b)陽子ビーム(B)中の所望陽子エネルギーに陽子ビーム(B)中の陽子のエネルギーを弱めるために陽子ビーム(B)中に任意に配置できる分解器と;c)多数の陽子ビームを曲げ及び焦点合せ又はそのいずれか一方を行うユニットと;d)対象物(M)の所定容量(T)を貫通する陽子ビーム(B)用の出口を有するビームノズル(N)と;e)ノズル(N)の上流に配置されているビーム曲げ磁石(A3)と;f)陽子ビーム(B)がビーム曲げ磁石(A3)に入る前に陽子ビーム(B)を両方向T,U)に掃引するために前記ビーム曲げ磁石(A3)の上流に配置されている一対の掃引磁石(WT、WU)と;g)前記ビームノズル(N)は10乃至30cm2 の範囲における陽子ビーム(B)に実質的に垂直な横断面走査領域(SF)を定義しており、そしてh)前記掃引磁石(WT、WU)と前記ビーム曲げ磁石(A3)が完全な横断面走査領域(SF)上に平行なビーム配向を保証するように制御されることから成る。

請求項（抜粋）：

対象物(M)内の所定容積(T)の強度調整陽子治療用システムにおいて、 a)ビーム強度に関して調整できる陽子ビーム(B)を発生させるための陽子源と; b)陽子ビーム(B)中の所望陽子エネルギーに陽子ビーム(B)中の陽子のエネルギーを弱めるために陽子ビーム(B)中に任意に配置できる分解器と; c)多数の陽子ビームを曲げ及び焦点合せ又はそのいずれか一方を行うユニットと; d)対象物(M)の所定容量(T)を貫通する陽子ビーム(B)用の出口を有するビームノズル(N)と; e)ノズル(N)の上流に配置されているビーム曲げ磁石(A3)と; f)陽子ビーム(B)がビーム曲げ磁石(A3)に入る前に陽子ビーム(B)を両方向T,U)に掃引するために前記ビーム曲げ磁石(A3)の上流に配置されている一対の掃引磁石(WT、WU)と; から成り、 g)前記ビームノズル(N)は10乃至30cm2 の範囲における陽子ビーム(B)に実質的に垂直な横断面走査領域(SF)を形成しており、 h)前記掃引磁石(WT、WU)と前記ビーム曲げ磁石(A3)が完全な横断面走査領域(SF)上に平行なビーム配向を保証するように制御されることをう特徴とするシステム。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (1件)：

A61N5/10 H

Fターム (8件)：

4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG01 ,  4C082AG12 ,  4C082AG44 ,  4C082AG53 ,  4C082AL07

引用特許：

審査官引用 (4件)

• イオンビーム治療システムおよび該システムを操作する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-570789   出願人：ジーエスアイゲゼルシャフトフュアシュベールイオーネンフォルシュンクエムベーハー
• 荷電粒子線照射装置、荷電粒子線回転照射装置、および荷電粒子線照射方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-287003   出願人：三菱電機株式会社
• 放射線のエネルギ分布調整機構、並びに、これを用いた放射線の照射方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-089249   出願人：住友重機械工業株式会社
• ビーム治療装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-069410   出願人：株式会社東芝