特許
J-GLOBAL ID：200903029189618445

光学素子の製造装置および光学素子の製造方法

発明者：
松原 和徳

松原 和徳 について

, 
伊藤 健二

伊藤 健二 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-055281
公開番号（公開出願番号）：特開2000-246810
出願日： 1999年03月03日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：
【要約】【課題】 生産時間が短くて、生産効率の高い光学素子の製造装置および光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】 この光学素子の製造方法および製造装置によれば、上,下スタンパ41,40を紫外線透過型材質とし、透明基材1の表側と裏側に配置した紫外線硬化樹脂2b,2aを上,下スタンパ41,40で挟んで、紫外線硬化樹脂2b,2aに原盤パターンを転写し、上,下スタンパ41,40に挟まれた紫外線硬化樹脂2b,2aに紫外線を照射して、透明基材1の表と裏に光学パターンを一括成形できる。
請求項（抜粋）：
転写用表スタンパと転写用裏スタンパが有する原盤パターンを、透明基材の表面と裏面に転写して、上記透明基材に光学パターンを形成する光学素子の製造方法であって、上記表,裏スタンパを紫外線透過型材質とし、上記透明基材の表側と裏側に配置した紫外線硬化樹脂を上記表,裏スタンパで挟んで、上記紫外線硬化樹脂に上記原盤パターンを転写し、上記表,裏スタンパに挟まれた紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して、上記透明基材の表と裏に光学パターンを一括成形することを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (6件)：
B29D 11/00 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G03H 1/18 ,  G11B 7/135 ,  G11B 7/22
FI (6件)：
B29D 11/00 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G03H 1/18 ,  G11B 7/135 A ,  G11B 7/22
Fターム (27件)：
2H049AA40 ,  2H049AA43 ,  2H049AA57 ,  2H049AA65 ,  2H049CA08 ,  2H049CA20 ,  2H049CA28 ,  2K008AA00 ,  2K008GG05 ,  4F213AA44 ,  4F213AH73 ,  4F213AH79 ,  4F213AJ03 ,  4F213AJ06 ,  4F213WA05 ,  4F213WA53 ,  4F213WA56 ,  4F213WA86 ,  4F213WA97 ,  4F213WB01 ,  4F213WC01 ,  5D119AA04 ,  5D119AA38 ,  5D119BA01 ,  5D119JA03 ,  5D119JA22 ,  5D119NA05
引用特許：
審査官引用 (6件)
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