特許
J-GLOBAL ID：200903029208656582
試料検査装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-060594
公開番号（公開出願番号）：特開平7-318506
出願日： 1995年03月20日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：
【要約】【目的】 従来検出が不可能であった種類の微小欠陥の検出をも可能とし、かつ欠陥の種類によって最高検出感度が異なる問題を解決すこと。【構成】 半導体製造に関係するパターンが形成された試料検査装置において、検出すべきピンホール形状データが記憶されるテンプレートと、このテンプレートに記憶された前記ピンホール形状データと前記パータンの光透過像に係る検出データとの一致数を予定単位毎に算出する算出部と、前記一致数が第1予定値を超えたとき当該一致数が第2予定値を超える部分の前記検出データを前記予定単位毎に修正することにより、前記検出データのうち前記検出されたピンホールを含む部分を修正する修正部と、この修正部により得られた前記ピンホールを含む部分の修正検出データと前記検出データとに基づき前記パターン中の欠陥を検出する欠陥検出部とを具備する。
請求項（抜粋）：
半導体製造に関係するパターンが形成された試料に光を照射する光照射手段と、 前記試料を透過した光を検出することにより前記パターンの光透過像を構成する検出データを取得する取得手段と、この取得手段により取得された前記検出データを記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された検出データに基づき前記パターンにおけるピンホールクを検出し、該検出データのうち前記検出されたピンホールを含む部分を修正するピンホール検出手段と、このピンホール検出手段により得られた前記ピンホールを含む部分の修正検出データと前記検出データとに基づき前記パターン中の欠陥を検出する欠陥検出手段と、この欠陥検出手段の検出結果を出力する出力手段とを具備することを特徴とする試料検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G03F 1/08
, G06T 7/00
, H01L 21/027
G06F 15/62 405 A
, H01L 21/30 502 V
