特許

J-GLOBAL ID：200903029233830848

超音波処理装置

発明者： 磯 明典 ,  佐藤 修
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-089201
公開番号（公開出願番号）：特開2001-276763
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月09日
要約：

【要約】【課題】 この発明は浸透性の高い処理液は浸透して超音波振動しに付着すことがないように超音波処理装置を提供することにある。【解決手段】 装置本体1を有し、この装置本体には被処理物を処理する処理液を通す第1の流路4が形成されたノズル体3及びこのノズル体の流路を流れる処理液に超音波振動を与える超音波振動子が設けられた超音波処理装置において、上記ノズル体は、上記処理液を上記第1の流路に供給する供給口7及びこの供給口から上記第1の流路に供給されて超音波振動が与えられた処理液を流出する流出口6が開口形成されているとともに、上記超音波振動子からの超音波振動が上記第1の流路に入射する部分は上記ノズル体と一体形成された透過壁5によって液密に閉塞された構造であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

装置本体を有し、この装置本体には被処理物を処理する処理液を通す第1の流路が形成されたノズル体及びこのノズル体の流路を流れる処理液に超音波振動を与える超音波振動子が設けられた超音波処理装置において、上記ノズル体は、上記処理液を上記第1の流路に供給する供給口及びこの供給口から上記第1の流路に供給されて超音波振動が与えられた処理液を流出する流出口が開口形成されているとともに、上記超音波振動子からの超音波振動が上記第1の流路に入射する部分は上記ノズル体と一体形成された透過壁によって液密に閉塞された構造であることを特徴とする超音波処理装置。

IPC (2件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 643

FI (2件)：

B08B 3/12 Z ,  H01L 21/304 643 D

Fターム (7件)：

3B201AA01 ,  3B201BB32 ,  3B201BB84 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CD33

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 超音波洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-130131   出願人：島田理化工業株式会社
• 超音波反射面が抛物面である超音波洗浄機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-089063   出願人：株式会社カイジョー
• 特開平3-222419
  
• 特開平3-222419