特許
J-GLOBAL ID：200903029250380589
基板洗浄方法、位相シフトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-262641
公開番号（公開出願番号）：特開2007-078712
出願日： 2005年09月09日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：
【課題】洗浄能力向上と被洗浄基板の腐食や削れの防止を同時に実現する。【解決手段】本発明の例に関わる基板洗浄方法は、パターン面を有する被洗浄基板を作製する工程と、パターン面に対してプラズマ処理を施す工程と、プラズマ処理を施した後に被洗浄基板の洗浄を行う工程とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パターン面を有する被洗浄基板を作製する工程と、
前記パターン面に対してプラズマ処理を施す工程と、
前記プラズマ処理を施した後に前記被洗浄基板の洗浄を行う工程とを具備することを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
2H095BB03
, 2H095BB20
, 2H095BB22
, 2H095BC24
, 3B201AA02
, 3B201AB01
, 3B201BB02
, 3B201BB82
, 3B201BB85
, 3B201BB92
, 3B201CC13
