基板洗浄方法及び基板洗浄装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：竹村壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-190696
公開番号（公開出願番号）：特開2002-009035
出願日： 2000年06月26日
公開日（公表日）： 2002年01月11日
要約：

【要約】【課題】酸性薬液で被洗浄基板を洗浄する方法において、洗浄後に被洗浄基板に残留している酸性薬液を効率的に取り除く基板洗浄方法及びこの方法に用いられる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】酸性薬液で被洗浄基板を洗浄した後であって残留する酸性薬液を純水を用いて洗い流した後、さらに、塩基性薬液を前記被洗浄基板表面に吐出させて被洗浄基板に残留する酸性薬液を除去する。酸性薬液に塩基性薬液を吐出することにより酸・塩基の中和反応が生じて被洗浄基板表面に残留する酸性薬液が効率的に除去される。。高温純水を被洗浄基板表面の中心からわずかに離れた箇所に吐出し、その後、それほど高くない回転数で被洗浄基板表面を乾燥させ、この表面の乾燥がある程度の面積まで広がったところで高速回転させて被洗浄基板の端面の乾燥を行う。

請求項（抜粋）：

被洗浄基板に対して、初期段階において酸性薬液による洗浄を行う工程と、前記酸性薬液による洗浄工程後に塩基性薬液による洗浄を行って前記被洗浄基板表面を中和させる工程とを具備したことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 643 , H01L 21/304 648 , H01L 21/304 651 , B08B 3/02 , B08B 3/08

FI (5件)：

H01L 21/304 643 A , H01L 21/304 648 G , H01L 21/304 651 B , B08B 3/02 B , B08B 3/08 A

Fターム (13件)：

3B201AA03 , 3B201AB34 , 3B201BB02 , 3B201BB05 , 3B201BB22 , 3B201BB62 , 3B201BB82 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB96 , 3B201CB12 , 3B201CC01 , 3B201CC13

引用特許：

審査官引用 (2件)

配線用銅膜表面の酸化銅除去方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-191274 出願人：富士通株式会社
湿式洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-280564 出願人：住友金属工業株式会社

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