特許
J-GLOBAL ID：200903029262610610
新規な有機ケイ素化合物及びそれを配合してなる化粧料
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝田 清暉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-215230
公開番号（公開出願番号）：特開平10-045768
出願日： 1996年07月26日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：
【要約】【課題】 紫外線から皮膚を守るための改良された化粧料を提供する。【解決手段】 R1 3 SiO 1/2 単位、SiO 2 単位、並びに、必要に応じて、夫々20モル%以下の R2 SiO 3/2 単位及び R3 2 SiO 単位が、( R1 3 SiO 1/2 + R2 SiO 3/2 + R3 2 SiO )/SiO 2 =0.5〜1.5(モル比)の割合で存在し、かつ上記 R1 、 R2 及び R3 で示される有機基全量の1〜33モル%が下記化1で表される基とであると共に、残りの有機基が炭素原子数1〜30の置換又は非置換の一価の炭化水素基であることを特徴とするジベンゾイルメタン骨格を有する有機ケイ素化合物、及び、それを主成分としてなる化粧料。【化1】但し、 R4 及び R5 は、水素原子、ヒドロキシ基、置換又は非置換の、炭素原子数1〜10のアルキル基又はアルコキシ基であり、aは0〜4の整数、bは0〜5の整数、cは0又は1、及び、nは2〜6の整数である。
請求項（抜粋）：
R 1 3 SiO 1/2 単位、SiO 2 単位、並びに、必要に応じて、夫々20モル%以下の R2 SiO 3/2 単位及びR 3 2 SiO 単位が、(R 1 3 SiO 1/2+ R2 SiO 3/2 +R 3 2 SiO ) /SiO 2 =0.5〜1.5(モル比)の割合で存在し、かつ上記 R1 、 R2 及び R3 で示される有機基全量の1〜33モル%が下記化1で表される基であると共に、残りの有機基が炭素原子数1〜30の置換又は非置換の一価の炭化水素基であることを特徴とする、ジベンゾイルメタン骨格を有する有機ケイ素化合物;【化1】但し、化1中の R4 及び R5 は、水素原子、ヒドロキシ基、置換又は非置換の、炭素原子数1〜10のアルキル基又はアルコキシ基であり、aは0〜4の整数、bは0〜5の整数、cは0又は1、及び、nは2〜6の整数である。
IPC (4件)：
C07F 7/08
, A61K 7/00
, A61K 7/42
, C09K 3/00 104
C07F 7/08 X
, C07F 7/08 H
, A61K 7/00 E
, A61K 7/42
, C09K 3/00 104 Z
