特許
J-GLOBAL ID:200903029277389120
純水の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-054684
公開番号(公開出願番号):特開平10-249340
出願日: 1997年03月10日
公開日(公表日): 1998年09月22日
要約:
【要約】【課題】 被処理水に酸を添加して脱気処理した後、多段に直列配置したRO膜分離装置に順次通水して純水を製造する方法において、RO膜分離装置の入口水のpH変動を抑え、RO処理に好適なpH条件を安定に維持することにより、高水質の純水を製造する。【解決手段】 脱気処理2後の水を活性炭3と接触させ、活性炭接触後の水を多段に直列配置したRO膜分離装置4〜6に順次通水する。【効果】 脱気処理水を活性炭処理することでpHを安定させ、多段RO処理の給水を容易に最適pH条件に調整することにより、高純度の純水を安定に製造する。
請求項(抜粋):
被処理水に酸を添加して脱気処理した後、多段に直列配置した逆浸透膜分離装置に順次通水して純水を製造する方法において、脱気処理後の水を活性炭と接触させ、該活性炭接触後の水を多段に直列配置した前記逆浸透膜分離装置に順次通水することを特徴とする純水の製造方法。
IPC (11件):
C02F 1/44
, B01D 19/00
, B01D 19/00 101
, B01D 61/08
, B01D 61/58
, C02F 1/20
, C02F 1/28
, C02F 9/00 502
, C02F 9/00
, C02F 9/00 503
, C02F 9/00 504
FI (12件):
C02F 1/44 H
, B01D 19/00 H
, B01D 19/00 101
, B01D 61/08
, B01D 61/58
, C02F 1/20 A
, C02F 1/28 D
, C02F 9/00 502 F
, C02F 9/00 502 H
, C02F 9/00 502 Z
, C02F 9/00 503 B
, C02F 9/00 504 B
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開昭62-204893
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特開昭62-110795
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特開昭62-110795
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半導体洗浄排水からの純水回収方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-125845
出願人:栗田工業株式会社
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純水製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-057510
出願人:三浦工業株式会社
-
特開平2-194820
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