アラインメント調整方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松岡修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-046345
公開番号（公開出願番号）：特開平8-222511
出願日： 1995年02月10日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：

【要約】【目的】レーザ光束を走査して基板に回路パターンを書き込む描画装置において、短時間での基板のアラインメントを可能とする、アラインメント調整方法の提供を目的としている。【構成】外部装置から描画情報と共に転送されるアラインメント調整用データに基づいて、検出手段(102a、102b)と基板(S)との相対位置を粗調整し、その後で検出手段により基板上の基準パターンを検出して微調整を行う構成とした。

請求項（抜粋）：

外部装置から送られる画像情報を受信し、前記画像情報に基づいて変調した光束で基板表面を主走査方向に走査するとともに前記基板を前記主走査方向とほぼ垂直な副走査方向に移動させて前記基板表面に回路パターンを焼き付ける描画装置において、前記画像情報と共に前記基板に形成された所定の基準パターンの位置に関する情報を受信し、前記所定の基準パターンを検出する検出手段と前記基板との相対位置を、前記所定の基準パターンの位置に関する情報に基づいて調整し、前記検出手段により前記所定の基準パターンを検出し、前記検出手段の検出結果に基づき、前記基板の所定の基準パターンの位置と、前記所定の基準パターンの位置に関する情報との差を求め、前記基板の所定の基準パターンの位置と、前記所定の基準パターンの位置に関する情報との差に基づいて前記基板と前記回路パターンの相対位置を調整すること、を特徴とする、アラインメント調整方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B43L 13/00 , G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 529 , B43L 13/00 J , G03F 9/00 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭61-263222
特開昭61-263222
特開平3-154326

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