中性粒子線源

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-260261
公開番号（公開出願番号）：特開平10-083899
出願日： 1996年09月09日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】【課題】残留イオンによる影響を極小として、絶縁性材料でも安定して照射を行うことができるような中性粒子線源を提供する。【解決手段】負イオン源と、負イオン源から負イオンを加速して引き出す引き出し手段と、引き出し手段で加速した負イオンの電子を分離させて中性粒子線を発生させる中性化手段とを有する。

請求項（抜粋）：

真空容器内に配した試料のドライエッチングやドライ洗浄などの表面処理法あるいは真空容器内に配した試料の表面分析法に利用する中性粒子線源において、負イオン源と、該負イオン源から負イオンを加速して引き出す引き出し手段と、該引き出し手段で加速した負イオンから電子を分離させて中性粒子線を発生させる中性化手段と、上記中性粒子線から残留負イオンや分離した電子などの荷電粒子の少なくとも一部を除去する荷電粒子除去手段とを有することを特徴とする中性粒子線源。

IPC (7件)：

H05H 3/02 , H01J 27/02 , H01J 37/08 , H01J 37/252 , H01L 21/3065 , H01L 21/304 341 , H01J 49/10

FI (7件)：

H05H 3/02 , H01J 27/02 , H01J 37/08 , H01J 37/252 B , H01L 21/304 341 D , H01J 49/10 , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平1-120826
特開昭62-291032
プラズマ処理方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-115655 出願人：日本電気株式会社

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