特許

J-GLOBAL ID：200903029359400032

CVD装置のシャワーヘッドノズル

発明者： 新井 朝子 ,  稲石 美明
出願人/特許権者： 日本酸素株式会社
代理人 (1件)： 木戸 一彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-128460
公開番号（公開出願番号）：特開平9-316644
出願日： 1996年05月23日
公開日（公表日）： 1997年12月09日
要約：

【要約】【課題】 シャワーヘッドノズルと基板との距離を原料の種類や基板の大きさなどに応じて任意に設定することができ、比較的大きな基板に対しても良質な薄膜を短時間で形成することができるCVD装置のシャワーヘッドノズルを提供する。【解決手段】 シャワーヘッドノズル11に熱交換手段を設けるとともに、シャワープレート14の厚みを5mm以上とする。

請求項（抜粋）：

原料ガスを噴出するシャワーヘッドノズルを、所定温度に加熱された基板に対向配置したCVD装置のシャワーヘッドノズルにおいて、該シャワーヘッドノズルに熱交換手段を設けるとともに、シャワープレートの厚みを5mm以上としたことを特徴とするCVD装置のシャワーヘッドノズル。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

C23C 16/44 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• シリコン酸化膜の成膜方法およびCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-217037   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社, 株式会社日立製作所