特許
J-GLOBAL ID：200903029363074476
素子又は素子作製用モールド型の作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-283445
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098116
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：
【要約】【課題】【解決手段】 第1のマスクに覆われない部分の母材を所定の深さにエッチングを行う第1工程と、第1のマスクで覆われない部分の母材の目的とする一部分を覆うと共に第1のマスクと重なるように第2のマスクを形成した後に、第1のマスク及び第2のマスクをエッチングマスクとして所定の深さにエッチングする第2工程と、第2のマスクを剥離した後に必要に応じて第2工程を繰り返し、第2のマスクを剥離した後に第3のマスクにより第1のマスクで覆われない部分を覆い、第4のマスクの端が第1のマスクの後にあり、反対側端が第3のマスクと重なるように第4のマスクを形成した後に第1のマスクの露出部をエッチングし除去して母材を露出し、続いて母材の露出部分を所定の深さにエッチングする第3工程とから成り、第3のマスク及び第4のマスクを剥離した後に必要に応じて第3工程を繰り返すことにより階段形状を有する回折光学素子11’を作製する。
請求項（抜粋）：
複数回のリソグラフィ工程により、多段の階段状回折光学素子又は多段階段状回折光学素子作製用モールド型が、最初の前記リソグラフィ工程により形成される第1のマスクによる全てのパターンの端により、多段階段状回折光学素子又は多段階段状回折光学素子作製用モールド型における一部の段の位置を規定することを特徴とする素子又は素子作製用モールド型の作製方法。
Fターム (8件)：
2H049AA33
, 2H049AA37
, 2H049AA45
, 2H049AA48
, 2H049AA53
, 2H049AA55
, 2H049AA63
, 2H049AA64
