特許

J-GLOBAL ID：200903029410874052

位置合わせ用マーク構造、その製法、リソグラフィマスク

発明者： 笠井 政範 ,  法元 寛 ,  野田 周一 ,  山下 吉雄 ,  足利 欣哉
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社 ,  株式会社ソルテック
代理人 (1件)： 大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-050177
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263311
出願日： 1994年03月22日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】 ウエハとの位置合わせがヘテロダイン法により行なわれる型のX線リソグラフィマスクに設けられる位置合わせ用マーク構造であって、位置合わせ精度が高くマスク自体の製造も簡単な位置合わせ用マーク構造を提供する。【構成】 形成したパターンに応じた遮蔽パターン(回路パターン)15を支持する為の支持体17自体を位置合わせマークの形状に応じ加工し形成したマーク部11aと、該支持体17の前記マーク部11aが形成された部分を含む所定領域部分の、前記試料側と対向する面に設けられ、前記遮蔽パターンを構成している材料と同じ材料で構成した遮蔽膜11bとにより位置合わせマーク構造11を構成する。

請求項（抜粋）：

リソグラフィに用いるエネルギー線を遮蔽する材料で構成され形成しようとするパターンに応じた形状を有した遮蔽パターン及び該遮蔽パターンを支持するための支持体を具えるリソグラフィ用マスクとリソグラフィの対象である試料とにそれぞれ形成された位置合わせ用マークに、アライメント光を照射し、各マークに起因して得られる回折光同士を比較することによってこれらマスク及び試料の位置合わせを行なうためのマスク側の位置合わせ用マーク構造であって、前記支持体自体を位置合わせマークの形状に応じ加工し形成したマーク部と、該支持体の前記マーク部が形成された部分を含む所定領域部分の、前記試料側と対向する面に設けられ、前記遮蔽パターンを構成している材料と同じ材料で構成した遮蔽膜とで構成したことを特徴とする位置合わせ用マーク構造。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 502 M

引用特許：

審査官引用 (1件)

• X線マスクおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-259276   出願人：松下電器産業株式会社