特許
J-GLOBAL ID:200903029425360918
加速度センサ及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
恩田 博宣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-035513
公開番号(公開出願番号):特開平8-236784
出願日: 1995年02月23日
公開日(公表日): 1996年09月13日
要約:
【要約】【目的】 小型化及び高感度化を達成できる加速度センサを提供すること。【構成】 この加速度センサ1は、歪みゲージ5形成用の肉薄部3とマス部6と空洞部7と連通口9とを備えている。肉薄部3は、p型シリコン基板2の表面側に形成される。マス部6は、肉薄部3の下部から突出する。空洞部7は、肉薄部3の下面側においてマス部6の基端部を包囲する。連通口9は、空洞部7とp型シリコン基板2の裏面側とを連通させる。マス部6は略四角錐台状であり、その基端部はくびれている。空洞部7の幅w3 は連通口9の幅w6 よりも大きい。
請求項(抜粋):
p型単結晶シリコン基板(2)の表面側に形成されるとともにn型シリコン層(4)からなる歪みゲージ形成用の肉薄部(3)と、前記肉薄部(3)の下部から突出するマス部(6)と、前記肉薄部(3)の下面側において前記マス部(6)の基端部を包囲する空洞部(7)と、前記空洞部(7)と前記p型単結晶シリコン基板(2)の裏面側とを連通させる連通口(9)とを備える加速度センサ(1,31,36,41,46)であって、前記空洞部(7)の幅(w3 )は前記連通口(9)の幅(w6 )よりも大きい加速度センサ。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L 29/84 A
, G01P 15/12
引用特許:
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