特許
J-GLOBAL ID：200903029431930041
カーボンナノチューブの連続製造方法およびその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
日比 紀彦
, 岸本 瑛之助
, 渡邊 彰
, 清末 康子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-194115
公開番号（公開出願番号）：特開2006-016232
出願日： 2004年06月30日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：
【課題】 カーボンナノチューブ(CNT)を基板全体にむらなく成長させることができるCNTの連続製造装置を提供する。【解決手段】 CNT連続製造装置は、所定角度ずつ断続的に回転するターンテーブル1 と、触媒層を有する基板をターンテーブル上の一側に導入する基板導入ゾーンA と、基板導入ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつ原料ガス供給ノズル12およびヒータ14を備え、基板導入ゾーンから来た基板上に加熱によりCNTを生成させる加熱ゾーンB と、加熱ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつクーラ15を備え、加熱ゾーンから来たCNT付き基板を冷やす冷却ゾーンC と、冷却ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつ冷却ゾーンから来た冷却CNT付き基板をターンテーブル上から取出す基板取出しゾーンD とを備え、加熱ゾーンは、空になったあと空気存在下に加熱して副次物を分解除去する働きも兼ねる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
触媒層を有する基板をCVD装置に導入して加熱し、同装置内に原料ガスを供給して、基板上に触媒層からカーボンナノチューブを生成させ、次いでカーボンナノチューブ付き基板を冷却したあとCVD装置から取出し、空になったCVD装置を空気存在下に加熱して副次物を分解除去するカーボンナノチューブ連続製造装置であって、
所定角度ずつ断続的に回転するターンテーブルと、
触媒層を有する基板をターンテーブル上の一側に導入する基板導入ゾーンと、
基板導入ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつ原料ガス供給ノズルおよびヒータを備え、基板導入ゾーンから来た基板上に加熱によりカーボンナノチューブを生成させる加熱ゾーンと、
加熱ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつクーラを備え、加熱ゾーンから来たカーボンナノチューブ付き基板を冷やす冷却ゾーンと、
冷却ゾーンの回転方向前方に設けられ、かつ冷却ゾーンから来た冷却カーボンナノチューブ付き基板をターンテーブル上から取出す基板取出しゾーンとを備え、
加熱ゾーンは、空になったあと空気存在下に加熱して副次物を分解除去する働きも兼ねる、
カーボンナノチューブ連続製造装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
4G146AA11
, 4G146AA12
, 4G146BA12
, 4G146BC09
, 4G146CB28
, 4G146DA30
