特許

J-GLOBAL ID：200903029528504560

フォトマスクの欠陥修正方法

発明者： 中山 憲治
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-055311
公開番号（公開出願番号）：特開2002-351055
出願日： 2002年03月01日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【課題】 円形の透過パターン内の黒欠陥の修正の作業性が飛躍的に向上するとともに、修正精度においてもほぼ設計通りの修正が可能であるフォトマスクの欠陥修正方法を提供する。【解決手段】 レーザ光11を可変矩形アパーチャ14にて整形し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レンズ15を通してフォトマスク1上の黒欠陥部分に結像させて黒欠陥を除去するレーザ修正装置を用い、前記結像レンズ15のフォーカスを意図的にずらすことによって、結像レンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマスク1上で例えば円形又は略円形のレーザ修正領域を形成するようにして、黒欠陥を除去することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

レーザ光を可変矩形アパーチャにて整形し、この矩形に整形されたレーザ光を結像レンズを通してフォトマスク上の黒欠陥部分に結像させて黒欠陥を除去するレーザ修正装置を用い、前記結像レンズのフォーカスを意図的にずらすことによって、結像レンズを通過する矩形レーザ光が、フォトマスク上に矩形から変形された状態のレーザ修正領域を形成するようにして、黒欠陥を除去することを特徴とするフォトマスクの欠陥修正方法。

IPC (4件)：

G03F 1/08 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 V ,  B23K 26/00 C ,  B23K 26/06 E ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (8件)：

2H095BA12 ,  2H095BD32 ,  2H095BD34 ,  4E068AC01 ,  4E068CA11 ,  4E068CD05 ,  4E068CD10 ,  4E068DA00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-100655
  
• レーザ加工装置及びその装置を用いてレーザ加工する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-070210   出願人：松下電器産業株式会社