特許

J-GLOBAL ID：200903029612736212

ドライエッチング残渣除去剤

発明者： 山本 博正 ,  平塚 勝大 ,  金子 紀男 ,  大串 建 ,  須賀 重政 ,  佐藤 愛彦 ,  正富 恒彦 ,  引田 章二
出願人/特許権者： 岸本産業株式会社 ,  フアインポリマーズ株式会社 ,  大塚化学株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-189593
公開番号（公開出願番号）：特開2003-007680
出願日： 2001年06月22日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、デバイスを製造する過程で発生するドライエッチング残渣の除去効果に優れ、デバイスに含まれる金属を腐食させる虞れのないドライエッチング残渣除去剤を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明のドライエッチング残渣除去剤は、α-ヒドロキシ脂肪族モノカルボン酸のアンモニウム塩を含有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

α-ヒドロキシ脂肪族モノカルボン酸のアンモニウム塩を含有することを特徴とするドライエッチング残渣除去剤。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 647 ,  C11D 7/26 ,  C11D 17/08

FI (4件)：

H01L 21/304 647 A ,  C11D 7/26 ,  C11D 17/08 ,  H01L 21/302 N

Fターム (10件)：

4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EB08 ,  4H003ED02 ,  4H003FA21 ,  4H003FA28 ,  5F004AA09 ,  5F004BD01 ,  5F004DB26 ,  5F004FA08

引用特許：

審査官引用 (1件)

• プラズマエッチング残渣を除去するための非腐食性洗浄組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-539056   出願人：アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド