特許
J-GLOBAL ID:200903057643664396
プラズマエッチング残渣を除去するための非腐食性洗浄組成物
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高木 千嘉 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-539056
公開番号(公開出願番号):特表2003-515254
出願日: 2000年10月20日
公開日(公表日): 2003年04月22日
要約:
【要約】本組成物は(a)水、(b)少なくとも1つのヒドロキシルアンモニウム化合物、(c)好ましくはアミンと4級アンモニウム水酸化物からなる群より選ばれる少なくとも1つの塩基性化合物、(d)少なくとも1つの有機カルボン酸、(e)場合によっては多水酸基化合物からなる。組成物のpHは好ましくは約2から約6の間である。
請求項(抜粋):
(a)水、(b)少なくとも1つのヒドロキシルアンモニウム化合物、(c)少なくとも1つの塩基性化合物、および(d)少なくとも1つの有機カルボン酸を含有する基板上に形成されたプラズマエッチング残渣の除去に有用な洗浄組成物。
IPC (11件):
H01L 21/3065
, B08B 3/08
, C09K 13/00
, C11D 7/10
, C11D 7/26
, C11D 7/32
, C11D 7/60
, C23G 1/04
, G03F 7/42
, H01L 21/027
, H01L 21/304 647
FI (11件):
B08B 3/08 Z
, C09K 13/00
, C11D 7/10
, C11D 7/26
, C11D 7/32
, C11D 7/60
, C23G 1/04
, G03F 7/42
, H01L 21/304 647 A
, H01L 21/302 102
, H01L 21/30 572 B
Fターム (39件):
2H096AA25
, 2H096HA23
, 2H096LA03
, 3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201BB02
, 3B201BB94
, 4H003DA09
, 4H003DA15
, 4H003EA23
, 4H003EB04
, 4H003EB07
, 4H003EB08
, 4H003EB19
, 4H003ED02
, 4H003FA15
, 4H003FA21
, 4H003FA28
, 4K053PA06
, 4K053PA10
, 4K053PA13
, 4K053QA07
, 4K053RA05
, 4K053RA21
, 4K053RA25
, 4K053RA40
, 4K053RA45
, 4K053RA51
, 4K053RA52
, 4K053RA62
, 4K053RA63
, 4K053RA66
, 4K053SA04
, 4K053SA06
, 4K053YA03
, 5F004AA09
, 5F004DA00
, 5F004DB00
, 5F046MA02
引用特許:
前のページに戻る