特許
J-GLOBAL ID：200903029630891233

樹脂体を形成する方法、光導波路のための構造を形成する方法、および光学部品を形成する方法

発明者：
柳沢 昌輝

柳沢 昌輝 について


出願人/特許権者：
住友電気工業株式会社

住友電気工業株式会社 について


代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  柴田 昌聰 ,  近藤 伊知良
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-188421
公開番号（公開出願番号）：特開2007-010760
出願日： 2005年06月28日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：
【課題】光学式ナノインプリント法によりパターン形成された樹脂体を用いて光導波路のための構造を形成する方法を提供する。【解決手段】紫外線硬化剤11aを含む樹脂体11を被処理物体13上に形成する。モールド15を樹脂体11に押しつける。この押しつけにより、樹脂体11はモールド15のパターン15aに応じて変形して、樹脂体17が形成される。樹脂体17には、紫外線19が照射される。モールド15を樹脂体21に押しつけた状態で第1の温度T1より低い第2の温度T2にモールド15および樹脂体21の温度を下げる。樹脂体21の温度を下げた後に、モールド15を樹脂体21から離して離型する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光導波路のための構造を形成する方法であって、 第1の屈折率を有する第1の領域上に、紫外線硬化剤を含む樹脂体を形成する工程と、 前記樹脂体の材料の熱膨張率より小さい熱膨張率の材料から成り光導波路のためのパターンを有するモールドを、前記樹脂体に第1の温度において押しつける工程と、 前記モールドを前記樹脂体に押しつけた状態で該樹脂体に紫外線を照射して硬化した樹脂体を形成する工程と、 前記モールドを前記樹脂体に押しつけた状態で前記第1の温度より低い第2の温度に前記モールドおよび前記樹脂体の温度を下げて前記樹脂体を収縮させる工程と、 前記樹脂体の温度を下げた後に前記モールドを前記樹脂体から離して、パターン形成された樹脂体を形成する工程と、 前記パターン形成された樹脂体から形成されたマスクを用いて前記第1の領域をエッチングして、パターン形成された第1の領域を形成する工程と、 前記パターン形成された第1の領域上に、前記第1の屈折率と異なる第2の屈折率を有しており前記パターンに対応して第2の領域を形成する工程と を備える、ことを特徴とする方法。
IPC (1件)：
G02B 6/13
FI (1件)：
G02B6/12 M
Fターム (9件)：
2H147BA05 ,  2H147BA10 ,  2H147EA14A ,  2H147EA14B ,  2H147EA37B ,  2H147EA40B ,  2H147FA15 ,  2H147FC04 ,  2H147FD09
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
  • レンズ成形用型
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-282515   出願人：ホーヤ株式会社
  • 光透過ナノスタンプ方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-077832   出願人：株式会社日立製作所
  • 光学素子の成形方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-275155   出願人：キヤノン株式会社
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