特許

J-GLOBAL ID：200903029632447616

改良セリア粉末

発明者： ガーグ,アジャイ ケー. ,  タニケラ,ブラフマナンダム ブイ. ,  カーウンド,アルップ
出願人/特許権者： サンーゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-503391
公開番号（公開出願番号）：特表2003-502255
出願日： 2000年06月06日
公開日（公表日）： 2003年01月21日
要約：

【要約】BET表面積が少なくとも10m2/gのセリアを含む、光学的用途及びCMPで有益な研磨スラリー。このスラリーは、凝集体を含む商業的に入手可能なスラリーを、9〜11のpHで低純度αアルミナ又はジルコニアの磨砕媒体を使用して、機械化学処理することによって作ることができる。好ましいスラリーは、全てのpH値で正の表面電荷を維持する。好ましくはCMPスラリーは、追加のアニオン性界面活性剤を含有して、表面残留物の除去を補助する。

請求項（抜粋）：

BET表面積が10m2/g未満で且つ複数の凝集したセリア粒子を含むセリアスラリーを提供すること、及びBET表面積が少なくとも5m2/g増加するまで、pH9〜12.5で前記スラリーを磨砕することを含む、光学研磨及びCMPの用途に適当なセリアスラリーを製造する方法。

IPC (4件)：

C01F 17/00 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  H01L 21/304 622

FI (4件)：

C01F 17/00 A ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D ,  H01L 21/304 622 D

Fターム (9件)：

3C058AA07 ,  3C058CB02 ,  3C058DA02 ,  4G076AA02 ,  4G076BC08 ,  4G076BD01 ,  4G076CA15 ,  4G076CA28 ,  4G076DA30

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 酸化セリウム研磨剤及び基板の研磨法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-207866   出願人：日立化成工業株式会社
• 酸化セリウム研磨剤及び基板の研磨法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-258769   出願人：日立化成工業株式会社

審査官引用 (1件)

• 酸化セリウム研磨剤及び基板の研磨法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-207866   出願人：日立化成工業株式会社